將襯底放置于真空中會促使揮發雜質的蒸發。這種方法的效果與襯底在真空中保留時間的長短、溫度、污染物的類型及襯底材料有關。在室溫高真空條件下，局部壓力對解吸的影響是可以忽略的，解吸是由加熱產生的。加熱玻璃表面促使吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用有不同程度的增加，這與溫度有關。外加溫度在100~850C，需要加熱的時間在10~60min。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必須高于450C才行。對于較高溫度襯底上淀積膜(制備特殊性質的膜)的情形，加熱清洗特別有效。但是由于加熱的結果，也就會發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成炭渣。然而高溫火焰處理(如氫-空氣火焰)效果很好，雖然這個過程中表面溫度僅約100C，火焰中存在著各種離子、雜質及高熱能分子。-般認為，火焰的清潔作用與一種輝光放電作用相類似，在輝光放電中，離子化的高能粒子撞擊待清潔表面。